Pam vakum ialah peranti yang mencipta persekitaran vakum dengan mengekstrak molekul gas dari ruang tertutup melalui cara mekanikal, fizikal atau kimia.
Pam Mekanikal: Pam ini secara langsung memampatkan dan mengeluarkan gas melalui gerakan mekanikal (seperti ram berputar atau omboh), sesuai untuk vakum kasar (10^3-10^-1 Pa), seperti pam ram berputar dan pam injap gelongsor.
Pam Molekul: Pam ini menggunakan ram berputar berkelajuan tinggi -(mencapai puluhan ribu rpm) untuk memacu molekul gas secara berarah ke port ekzos, sesuai untuk vakum tinggi (10^-1-10^-7 Pa).
Pam Resapan: Pam ini menggunakan minyak atau wap yang dipanaskan untuk mencipta pancutan-tinggi yang membawa molekul gas ke bawah dan dinyahcas oleh pam belakang. Mereka memerlukan penggunaan pam mekanikal dan boleh mencapai-vakum ultra tinggi (di bawah 10^-7 Pa).
Pam Kriogenik: Pam ini memekatkan dan menjerap molekul gas melalui perangkap sejuk (helium cecair atau peti sejuk), sesuai untuk persekitaran vakum bebas minyak{0}}yang bersih.
Pam Penjerapan: Pam ini menggunakan penjerapan fizikal bahan berliang (seperti ayak molekul) untuk memerangkap molekul gas, selalunya digunakan untuk pra-pemvakum. Parameter utama termasuk vakum muktamad (tekanan paling rendah boleh dicapai), kadar pengepaman (jumlah gas yang dipam setiap unit masa), kuasa dan keserasian media (cth, bahan khas diperlukan untuk gas menghakis). Pemilihan hendaklah berdasarkan pertimbangan menyeluruh tentang keperluan proses (cth, industri semikonduktor memerlukan-pam bebas minyak), kos dan kerumitan penyelenggaraan.
